Nước tinh khiết công nghiệp thường đáp ứng các tiêu chuẩn sau: GB/T11446.1-2013 nước cấp điện tử Nước
tinh khiết được sử dụng rộng rãi trong quang điện, năng lượng mới, vật liệu mới, đèn LED, PCB, hóa chất, điện, thép, nông nghiệp và các ngành công nghiệp khác.
Giải pháp:
Quy trình sản xuất chip đòi hỏi một lượng lớn nước siêu tinh khiết, phải đáp ứng các yêu cầu về chất lượng nước cực kỳ cao và loại bỏ các hạt nhỏ, ion, chất hữu cơ và các tạp chất khác.
Thẩm thấu ngược, sử dụng màng bán thấm để tách các phân tử nước khỏi tạp chất, có thể loại bỏ các hạt nhỏ, chất hữu cơ và các tạp chất khác trong nước để đảm bảo độ tinh khiết cao. Trong sản xuất chip, thẩm thấu ngược có thể được sử dụng để chuẩn bị nước siêu tinh khiết để cải thiện chất lượng nước hơn nữa.
Hệ thống nước siêu tinh khiết bao gồm 4 hệ thống xử lý.
Hệ thống xử lý trước; Hệ thống thẩm thấu ngược; Hệ thống EDI; Hệ thống xử lý tinh
Công nghệ cốt lõi:
1. Hệ thống xử lý sơ bộ cải tiến: Thực hiện hệ thống xử lý sơ bộ tiêu thụ hóa chất thấp;
2. Hệ thống EDI đặc biệt: thực hiện tiêu thụ hóa chất rất thấp và nước sản xuất silica-boron cấp PPT cực cao;
3. Hệ thống nhựa loại bỏ silicon và boron đặc biệt: thực hiện yêu cầu về nước siêu tinh khiết cấp 1-5PPT;
4. Hệ thống kiểm tra liên tục: thực hiện giám sát chất lượng nước của hệ thống theo thời gian thực;
5. BIM: cho phép thiết kế và hình dung thi công để đạt được hiệu quả triển khai hiệu quả của công trường;
6. Thiết kế thông minh: Thiết kế mô-đun thông minh, thiết lập các trung tâm dữ liệu đám mây, cho phép vận hành không cần giám sát, cảnh báo sớm và bảo trì phòng ngừa.
Ngành ứng dụng:
Xử lý nước rỉ rác từ nhà máy điện; xử lý nước thải tập trung NF/RO; hệ thống xả thải bằng không cho nước thải khử lưu huỳnh; xử lý nước thải xả tuần hoàn làm mát; hệ thống xử lý nước thải kim loại nặng; xử lý nước thải cắt; xử lý nước thải flo; xử lý nước thải mạ điện; khử nhiễm nước thải có độ đục cao/chất rắn lơ lửng cao; hệ thống làm mềm.
Có thể làm gì:
Doanh nghiệp công nghệ cao bán dẫn silicon carbide
Chỉ thị nước: điện trở suất ≥ 18,2MΩ-cm, TOC <1ppb, B <0,05ppb, DO <10ppb, Hạt <500 / L (> 0,05μm), kim loại <1ppt
Quy trình chính: xử lý sơ bộ + RO nhiều giai đoạn + EDI đặc biệt + hệ thống loại bỏ silic và bo nhiều giai đoạn + xử lý đánh bóng + khử khí + siêu lọc đầu cuối
